Micron está en primera línea en la evolución de los procesos litográficos para la creación de chips de memoria, y según lo planeado ha empezado a enviar a sus clientes los primeros chips fabricados en el nodo 1α (uno alfa). Esta litografía es una revisión de la 1Z que aporta hasta un 40 % más de densidad de bits en los chips de DRAM.
Este proceso aporta también un bajo consumo y por tanto es ideal para la memoria LPDDR5 en el entorno de los dispositivos móviles. Estos chips de memoria se venden en capacidades de 1 GB y 2 GB y se puede usar para fabricar la memoria DDR4 y LPDDR4 usada en proyectos empresariales para dar cobertura a proyectos de larga duración.
Micron tiene también en preparación el nodo 1ß aunque está en fases iniciales de desarrollo y no estaría listo hasta 2023, y está buscando formas de desarrollar el 1ɣ que podría llegar en torno a 2025. Más allá de ahí estaría el 1δ que precisaría de tecnología de luz ultravioleta extrema para poder fabricar los chips para reducir la complejidad de tener que hacer uso de patrones múltiples.
Todos estos procesos son del orden de los 10 nm, aunque los procesos litográficos para las estructuras de las memorias son distintos y por tanto medirlos con los valores que usan las compañías que fabrican procesadores sería inadecuado.
Vía: Guru3D.
