Aunque ASML es conocida por sus máquinas de producción litográfica se dedica también a otra serie de productos relacionados y necesarios para la fabricación de las obleas. Uno de ellos son las películas transparentes usadas para proteger los fotolitos en el proceso de fabricación. ASML ha mejorado esta película protectora para adaptarla adecuadamente a la luz ultravioleta extrema, lo que a la postre mejorará el rendimiento de producción de las obleas —el número chips válidos extraídos de ellas—.

Esos fotolitos pueden costar unos 100 000 dólares para las ópticas normales, mientras que las de luz ultravioleta extrema rondan los 300 000 dólares. Estas películas se aplican al fotolito en el momento de salir de la fábrica en la que se producen y su objetivo es evitar que caigan partículas que puedan deteriorarlo. Un fotolito es una máscara que indica cómo tienen que quedar marcadas las líneas de conexión y otros elementos de los chips durante la exposición a la luz que fija o elimina los productos químicos usados en el proceso de fabricación.

Se usa un fotolito por capa de una oblea, por lo que al final se tienen que producir —y proteger— decenas de ellas en la producción de cada chip, multiplicado por el número de líneas de producción en activo produciéndolos. Un proceso antiguo de 180 nm usaba 25 fotolitos, pero a medida que se baja la litografía el número de pasos en el proceso de producción ha aumentado y un nodo de 16 nm puede necesitar 75 fotolitos.

Algunos fabricantes de chips no han usado películas protectoras para producir sus obleas con distintos resultados, desde buenos hasta malos, pero a medida que se mejora la tecnología —se reducen los nanómetros— empiezan a ser más necesarias para asegurar un buen rendimiento de producción. Pero si no se crean y se aplican bien estas películas hay riesgo de que se produzcan más defectos por oblea. Ahí es donde esta nueva película para luz UVE entra en juego.

ASML va a transferir a otra empresa esta tecnología, Mitsui, para su producción y distribución tras haber conseguido que cumpla su objetivo de protección sin perjudicar el rendimiento de producción. Otras empresas están desarrollando estas películas para UVE, incluidos grupos de investigación de universidades, porque es donde hay un gran potencial (y necesidad) de hacer dinero en este sector. Samsung y TSMC ya usan los escáneres de ASML. Se espera que Intel pase a usarlos en el futuro próximo en sus nodos avanzados —me imagino que el de 7 nm cuando entre en producción—. SK Hynix también los usará para producir DRAM en el futuro cercano. La compañía venderá unos cuarenta escáneres de luz UVE este 2021.

Fuente: Semiconductor Engineering. Vía: TechPowerUp.