Los chips actuales se producen mediante un proceso de fotolitografía aplicando una capa de material fotosensible a una oblea para endurecer ciertas partes mediante la aplicación de luz ultravioleta en un patrón determinado y eliminando mediante productos químicos el resto. En realidad la longitud de onda de la luz aplicada, en este caso ultravioleta, también determina en última instancia el tamaño del recorte que se puede realizar en la oblea.
De ahí que haya cada vez más problemas a la hora de crear transistores más pequeños mediante este proceso litográfico. Pero IBM ha creado un proceso de fotolitografía denominado luz ultravioleta extrema (UVE) que permite crear componentes aún más pequeños. De esta forma han podido crear el primer procesador a 7 nanómetros, que indica el tamaño de cada transistor incluido (o más bien recortado) en el chip.
Sólo es el principio
El chip ha sido creado junto con GLOBALFOUNDRIES y Samsung
. Ambas compañías colaboran actualmente en crear chips a 14 nm, y el avance de IBM pone potencialmente en manos de Samsung pasar de los 14 nm actuales a los 7 nm, aunque para ello los coreanos deben crear los procesos de fabricación en masa y adaptación de fábricas, dos pasos que no son nada sencillos (como demuestra el material milagroso grafeno).La planta en la que se ha fabricado la primera oblea de estos chips está situada en el estado de Nueva York, en el complejo SUNY NanoTech, cercano a la capital del estado, Albany. El chip incluye más de 20.000 millones de transistores. Además usan por primera vez silicio-germanio (SiGe) en los canales de los transistores para conducir la electricidad.
Lo mejor está por llegar, porque ya están planeando la reducción del proceso de fabricación a 5 nm, además de investigar en tecnologías relacionadas como la creación de maquinaria industrial, uso de grafeno y fotónica de silicio.
Vía: IBM.
