La maquinaria litográfica actual tiene algunos problemas de escalabilidad en lo referente al consumo y tamaño, que va haciéndose mayores a cuanta menor longitud de onda se intenta transferir los diseños a las obleas. Eso requiere un conjunto de lentes más compleja y de mayor calidad, a la vez que mayor potencia de transferencia, lo cual dispara los costes de producir las obleas en el caso de los equipos de luz ultravioleta extrema, y más aún en los de alta apertura numérica. En el Instituto de Ciencia y Tecnología de Okinawa (ICTO), el profesor Tsumoru Shintake y su equipo ha desarrollado una máquina litográfica que reduciría notablemente los costes.
Gran parte de la reducción de los costes procedería de la reducción más que notable del consumo de energía que se necesitaría para transferir el fotolito (o fotomáscara) a la oblea. El sistema de espejos permite que llegue más del diez por ciento de la luz inicial frente al uno por ciento actual, lo cual reduce la necesidad de iluminantes que añaden costes adicional al proceso de producción. Además de reducir el tamaño de los escáneres litográficos, el coste de estas máquinarias bajaría de los 200 M$ actuales a menos de 100 M$.
En el diseño del ICTO se eliminan problemas que podrían presentarse como los de aberraciones ópticas, y todo con un foco inicial de apenas 20 W, lo cual abunda demás en la vida útil del sistema. Eso reduciría el consumo total en maquinaria de luz UVE de más de un millón de vatios a menos de cien mil vatios, y por tanto el coste de la energía usada. Entre ambas reducciones de costes, las obleas producidas costarían notablemente menos que ahora, y por tanto los chips que se cortaran de esas obleas.
Vía: Tom's Hardware.