Los discos duros actuales almacenan la información en discos rotatorios, en un patrón determinado de regiones magnetizadas sobre un recubrimiento magnético. Las ganancias en capacidad de estos años han venido por hacer esas regiones más pequeñas. Pero ahora mismo no se pueden reducir más sin crear interferencia magnética entre las zonas y poner en peligro la fiabilidad de la información almacenada.
Dos profesores de la Universidad de Texas en Austin, Grant Willson y Christopher Ellis, profesores de ciencia de los materiales y de química respectivamente, han desarrollado un nuevo recubrimiento de copolímeros que se pueden unir entre sí solos para crear patrones mucho más pequeños, y según las necesidades del fabricante, sin utilizar ningún tipo de máquina para realizar los surcos. Con esto se supera el límite de 30 nanómetros de separación entre regiones magnetizadas, o islas magnéticas, que existe actualmente con los métodos de fabricación tradicionales.
Para utilizar este autoensamblaje entre moléculas de copolímeros en las fábricas actuales, también han inventado un método tomando de base los platillos de los discos duros actuales. Sobre uno de estos platillos extienden una capa de polímeros para que se extiendan, se unan, y creen estas nuevas regiones magnéticas en las que almacenar información. Hasta ahora han obtenido patrones tan finos como 10 nanómetros. Con este tamaño, los profesores estiman que la densidad de información almacenada llegaría a 1 terabit por pulgada cuadrada, quintuplicando la capacidad actual de los discos duros.
En la imagen anterior, la zona grande muestra regiones claramente formadas, capaces de almacenar información. La zona pequeña muestra cómo sería esa misma región sin el nuevo recubrimiento, que no dispone de unos surcos claros para poder guardar y recuperar la información correctamente.
Western Digital está investigando cómo aplicar este sistema de fabricación en las líneas de producción existentes. Pero todavía falta conseguir que los copolímeros se alineen correctamente sobre grandes superficies antes de poder producir esta tecnología en masa con errores de fabricación mínimos.
