Samsung y TSMC están compitiendo duramente por ofrecer variedad de procesos litográficos a sus clientes. No solo en reducción de litografía sino mejoras en cada generación, como se ha visto hace bien poco con TSMC y sus nuevos procesos N5P y N7P. Samsung ha aprovechado la presentación de resultados para hablar más sobre su itinerario de procesos, que es bastante ambicioso.
La compañía tiene actualmente en producción su proceso de luz ultravioleta extrema (UVE) a 7 nm, del que saldrán varias versiones adicionales a distinto tamaño. Empezó en abril a producir con este proceso 7LPP con luz UVE, y de él sale otro de 6 nm (6LPP, de low power plus o 'bajo consumo avanzado') que finalizó su desarrollo y entrará en producción antes de final de año, probablemente a principios del cuarto trimestre.
Además, la compañía empezará a producir a 5 nm LPE (5LPE, de low power early o 'bajo consumo inicial') en el primer semestre de 2020, teniendo en cuenta que los primeros lotes de prueba a 5LPP serán producidos en este semestre. Por último, la compañía también espera terminar el desarrollo de su proceso 4LPE antes de final de año, por lo que podría llegar al mercado en algún momento de 2021, con las primeras pruebas de producción antes de final de 2020.
Samsung también ha indicado que espera que el nodo más solicitado durante 2020 sea el de 5 nm en forma de pruebas de producción solicitadas por sus clientes para llevarlas más adelante a producción en masa. Por el momento, la producción más solicitada es las de 10LPP y 8 LPP para sistemas en chip (SoC), así como el de 14LPP y 10LPP para chips orientados al entorno del automóvil, computación de alto rendimiento y redes.
Vía: AnandTech.
