Intel está llevando a cabo una expansión agresiva de su producción porque el futuro del sector de los semiconductores lo necesita. La actual sobredemanda de chips va a continuar previsiblemente en los próximos años, y solo quizás a partir de 2024 o 2025 se pueda dejar atrás la actual situación que se lleva arrastrando desde hace más de un año. Sea como sea, Intel ha dado la buena noticia de la inauguración de la última expansión (Mod3) de la fábrica D1X.
Es una expansión que se planeó en 2019, antes de la situación actual, y que tiene un coste asociado de unos 3000 millones de dólares. La fábrica D1X está situada en Hillsboro (Oregón), y esta inauguración añade un 20 % extra de superficie para maquinaria. Además Intel ha rebautizado al campus donde se ubica la D1X como Parque Gordon Moore en los Acres de Ronler, en honor de uno de los cofundadores de la compañía y autor de la ley de Moore.
En esta expansión se situarán los escáneres TwinScan EXE:5200 de luz ultravioleta extrema producidos por ASML y se orientará a la producción a 1.8 nm con el proceso 18A de Intel. Desde agosto del año pasado se ha estado moviendo maquinaria a ella, por lo que está casi lista para ir haciendo pruebas y producción real con los nodos 4 y 3 de Intel. Es la única fábrica con el tamaño y espacio suficiente para incluir estas enormes maquinarias de ASML, aunque en 2023 y 2024 se irán completando nuevas construcciones para instalar esta maquinaria.
Por otro lado, la compañía ha revisado su itinerario de procesos litográficos, sobre todo en lo referente al de 18A (18 Å o 1.8 nm). Con la buena marcha de la construcción de las fábricas y una sustancial inyección de dinero a ASML, Intel ha conseguido hacerse con la suficiente maquinaria de luz UVE de alta apertura numérica necesaria para romper la barrera de los 2 nm antes de tiempo. El itinerario actual era el siguiente, publicado en julio de 2021:
El nuevo itinerario se puede ver a continuación, en el que el proceso de 2 nm (20A, 20 Å), se adelanta al primer trimestre de 2024. O sea, que los 2 nm de Intel llegarán en 21-27 meses. Recorta su vida útil a solo seis meses en lugar de un año, lo mismo que le ocurre al proceso 3, y eso hace que el proceso 18A se adelante todo un año hasta el segundo semestre de 2024. Ha sido posible gracias al avance en el desarrollo de los RibbonFET, o el nombre que le da Intel a los FET creados mediante nanoláminas apiladas.
Eso sí, será a pequeña escala durante los T3 y T4 de 2024 con las primeras máquinas de alta AN en marcha, dejando la producción en gran volumen a 1.8 nm para el primer trimestre de 2025 cuando ASML habrá terminado de instalar la cantidad suficiente de maquinaria de alta AN para ello.
Vía: AnandTech.
