ASML es la empresa neerlandesa que dominar el panorama mundial de la maquinaria litográfica, y la única que está produciendo equipos de luz ultravioleta extrema. También es la que lleva más avanzada la investigación para los escáneres de alta apertura numérica (AN) necesarios para bajas de los 3 nm. Pero poco tiempo después de llegar se precisará de nueva maquinaria que por ahora está llamando de «hiper-AN».
Sobre la de alta AN, el director de la compañía, Martin van de Brink, ha indicado que en 2023 entrará en servicio el primer escáner codesarrollado junto a Imec. Los primeros modelos para las divisiones de I+D de las compañías serán entregados en 2024, mientras que la producción en masa con esta maquinaria llegará en 2025. Pero el coste de producción será especialmente alto.
Un escáner de alta AN consume unos 2 megavatios entre todas las etapas de producción de una oblea. Esto sienta un mal precedente para las de hiper-AN, donde Van de Brink avisa de que las cosas se volverán «problemáticas». La producción de chips con esta maquinaria puede tener un coste tan prohibitivo que muy pocos chips se producirían con ellas por no ser económicamente rentables. Salvo, claro está, que durante el proceso de I+D de esta maquinaria, en lo cual ya están metidos en ASML, consigan un gran descubrimiento.
La hiper-AN precisaría de una apertura numérica de 0.7-0.75, frente a los 0.33 de la maquinaria normal de luz ultravioleta extrema y los 0.55 de la de alta-AN. Lo cual lleva a que están intentando sortear en la compañía la hiper-AN haciendo cambios en los fundamentos actuales de la producción litográfica. Sean cuales sean, no se sabrán hasta al menos finales de esta década.
Vía: TechPowerUp.