Japón está siendo la apuesta de muchos fabricantes de semiconductores para diversificar su negocio. Los incentivos del Gobierno japonés tienen que ver con ello, pero también estar cerca de donde se produce cierta maquinaria, líquidos y otros fungibles que necesita la producción litográfica, sin acabar produciendo más en China o Taiwán. Ahora Micron ha indicado que llevará a su fábrica de Hiroshima (Japón) la producción con su proceso litográfico más puntero, el de 1γ nm, que usa luz ultravioleta extrema (UVE) para producir múltiples capas de los chips.
La inversión de Micron en la fábrica de Hiroshima será de más de 3600 millones de dólares en los próximos años, con la debida ayuda gubernamental, porque es el único fabricante de chips de DRAM que produce tiene fábricas en Japón. Se espera que la producción con este proceso de 1γ nm empiece en 2025, aunque Micron también producirá chips con luz UVE en sus instalaciones de Taiwán. Los planes desarrollo de Micron no se han detenido a pesar del bache que atraviesa el sector de los productores de memoria DRAM y NAND. La compañía espera que la situación económica se estabilice en la segunda mitad del año.
