Canon, el competidor más importante de ASML, espera poder luchar en el sector de los escáneres punteros en 2024 vendiendo sus primeros escáneres litográficos de nanoimpresión FPA-1200NZ2C, al menos si se cumplen las previsiones de la compañía. La litografía de nanoimpresión (NIL, nanoimprint lithography), es una técnica de litografía avanzada y empleada en la fabricación de chips y sistemas microelectromecánicos.
Normalmente la maquinaria litográfica se utiliza para transferir patrones pequeños y altamente definidos de unos fotolitos a una película fotorresistente que se extiende sobre las obleas mediante el uso de luz ultravioleta. La nanoimpresión, que no es algo nuevo, se basa en un molde de un chip que se estampa directamente sobre la superficie de una oblea.
Canon asegura que su FPA-1200NZ2C permite crear un patrón con un ancho de línea mínimo de 14 nm, que es suficiente para definir una interconexión de metal de aproximadamente 26 nm, y por lo tanto, es adecuado para procesos de 5 nm. Esto estaría en línea con las capacidades de los escáneres Twinscan NXE:3400C y otros similares de litografía UVE de ASML.
El problema de la nanoimpresión es que al haber contacto directo entre máquina oblea, en caso de que haya impurezas o partículas en la oblea o el molde, lleva a generar defectos. Es un proceso más lento que el de la transferencia de un fotolito a una oblea entera, por lo que procesar una oblea lleva más tiempo. Pero la significativa reducción es la principal baza de Canon.
Vía: DigiTimes.
