Canon anunció hace unas semanas la máquina FPA-1200NZ2C, que es de las más avanzadas del mercado de la producción de chips. Usa una técnica de nanoimpresión de las estructuras de un chip en lugar de usar luz para transferir el patrón de unos fotolitos a una oblea. Canon asegura que se pueden crear chips que serían equivalentes a los 5 nm de la maquinaría litográfica normal. Pero donde Canon puede triunfar más con esta máquina es con el precio, porque según el director ejecutivo de la compañía, «su precio tendrá un dígito menos que la maquinaria de luz ultravioleta extrema de ASML».
Los escáneres de luz UVE tienen un precio en torno a los 170 M€, por lo que quitarle un dígito a ese precio lo dejaría en los 17 millones, lo cual permitiría que empresas más pequeñas de producción de chips tuvieran acceso a maquinaria para fabricar chips avanzados. «No creo que la tecnología de nanoimpresión vaya a desplazar a la UVE, pero confío en que esto creará nuevas oportunidades y demanda. Ya estamos respondiendo muchas preguntas de nuestros clientes». No lo va a hacer porque la transferencia de un fotolito es mucho más precisa que este método, por lo que para los chips lógicos, procesadores principalmente, se seguiría usando los escáneres de ASML.
La nanoimpresión se basa en un molde de un chip que se estampa directamente sobre la superficie de una oblea, que es donde reside su principal desventaja frente a la maquinaria litográfica normal. Ese contacto directo, en caso de que haya impurezas o partículas en la oblea o el molde, lleva a generar defectos. Es un proceso más lento que el de la transferencia de un fotolito a una oblea entera, por lo que procesar una oblea lleva más tiempo. Pero la significativa reducción de costes es la principal baza de esta máquina de nanoimpresión.
Vía: Tom's Hardware.
