NVIDIA no ha cambiado ni siquiera de litografía en las RTX 50, no ha cambiado la arquitectura de sus sombreadores ni casi su cantidad modelo a modelo con respecto a las RTX 40 —con excepciones—, y por tanto tiene bastante margen para mejorar el rendimiento yendo a lo básico. Como ahora sigue usando la litografía de 4 nm de TSMC, de hace cuatro años, Jensen Huang ha asegurado que con solo el cambio a usar los GAAFET en la litografía de 2 nm de TSMC conseguiría un aumento de rendimiento directo del 20 %. O para el caso, la de 1.8 nm de Intel que también pasa a usarlos.
El comentario lo hizo tras ser preguntado por Feynman, los chips que llegarán en torno a 2028, y que parece que estará fabricada con un proceso litográfico GAAFET. La compañía está yendo un paso por detrás debido a que realmente no tiene mucha competencia por parte de AMD, Intel y otras compañías, ni en aceleradoras ni en tarjetas gráficas. O más específicamente, aceleradoras para entrenamiento, que en inferencia sí tiene competidores más baratos que están cogiendo tracción.
Lo gracioso del asunto es que Huang ha dicho que las mejoras de las litografías están bien, pero que lo que realmente impulsa la evolución son los cambios a la arquitectura —que no las ha tocado demasiado a pesar de lo que intente sugerir Huang—. No solo eso, sino también la capacidad de que se puedan gestionar más procesadores a la vez, y que con esos cambios se maximice el rendimiento por vatio.
Vía: Tom's Hardware.
