Samsung no es ajena a la necesidad que tienen las compañías tecnológicas de tener amplio acceso a producción litográfica puntera, y ahora ha anunciado que una nueva línea de producción, la V1, ha empezado a trabajar en Hwaseong. La producción en masa en marcha consiste en obleas de 30 cm con un proceso litográfico de 7 nm que hace uso de luz ultravioleta extrema (UVE).
Es la primera planta dedicada en exclusiva a luz UVE, y empezó a construirse en 2018, con las primera pruebas de producción en la segunda mitad de 2019. Debido a la alta demanda que tiene el proceso de 7 nm de TSMC, que Samsung haya abierto esta planta y haya empezado la producción en masa son buenas noticias para el sector. La coreana quiere abrir sus líneas de producción a más empresas y así no dedicarse exclusivamente a producir chips para autoconsumo.
Esta línea de producción en el complejo de Hwaseong también va a producir en breve obleas a 6 nm, y es la que se encargará de producción próximamente los chips a 3 nm a medida que adecúe las instalaciones con nueva tecnología litográfica de fabricación. Con esta planta y otras expansiones en curso, Samsung espera triplicar la producción de chips a 7 nm antes de cerrar el 2020.
Samsung mantiene en Hwaseong otras líneas de fabricación, a 10 nm y a 65 nm, así como seis líneas en Giheung (Corea del Sur) de obleas de 20 cm a 65-180 nm junto a la S1 de 8-65 nm, y la S2 en Austin (EE. UU.) de obleas de 30 cm a 11-65 nm.
