La guerra tecnológica entre China y EUA se está recrudeciendo por momentos y está pillando a las empresas en medio. EUA ha vetado la exportación a China de una variedad de productos litográficos que usan tecnología estadounidense, pero China ahora empieza a responder con restricciones a la exportación de materias primas que controla como el galio o germanio y que son vitales para la producción de semiconductores. Las empresas que están en medio de esta guerra están buscando alternativas, y en el caso de la neerlandesa ASML parece que va a crear maquinaria litográfica que no use tecnología estadounidense para seguir vendiéndola en China.
La información procede de la no siempre fiable Digitimes, pero el fondo de la cuestión es plausible y esperable por parte de ASML. Aparentemente estaría modificando uno de sus escáneres más populares, el Twinscan NXT:1980Di, para que los fabricantes de chips chinos pueden crear obleas a una litografía de 28 nm o superior.
Teniendo en cuenta que la mayoría de chips que se fabrican en el mundo lo son empleando litografías maduras —comunicaciones, gestión de memoria, sensores, controladores de pantalla, interfaz, procesamiento de señales, etc.—, a China le vendría muy bien para avanzar su Hecho en China 2025, que más que probablemente no se cumpla en el terreno de la fabricación de chips por los vetos de EUA.
Ese escáner de ASML ha sido utilizado por TSML para fabricar chips por luz ultravioleta profunda incluso a 7 nm, por lo que precisará de diversos cambios para adecuarlo a las sanciones de EUA. Por ejemplo, cambiando la óptica para evitar que se use por debajo de los 28 nm con las restricciones impuestas de tamaño de celdas de memoria o transistores, y ciertos apaños a nivel de programación.
Vía: Tom's Hardware.
