Estados Unidos ha anunciado una inversión de 825 millones de dólares en el Albany NanoTech Complex en Nueva York para crear un centro de investigación de litografía de luz ultravioleta extrema (UVE), una tecnología clave en la fabricación de semiconductores avanzados. Esta inversión forma parte del programa CHIPS que busca reducir la dependencia del país de la producción de semiconductores en el extranjero, especialmente en un contexto de tensiones con China y la competencia global en la industria.
Este centro de litografía de luz UVE se construirá con la asistencia de ASML, la empresa neerlandesa que es el único proveedor de maquinaria EUV a nivel mundial. ASML es fundamental para el avance de tecnologías como la inteligencia artificial y las redes 5G, ya que sus máquinas de luz UVE permiten la producción de semiconductores de última generación. Al contar con una instalación de este tipo en territorio estadounidense, se prevé que el país pueda fortalecer su autonomía en la cadena de suministro de semiconductores, así como facilitar un ecosistema de investigación y desarrollo (I+D) más accesible para las empresas locales.
El proyecto no solo está diseñado para mejorar la autosuficiencia tecnológica de Estados Unidos, sino también para fomentar la colaboración con diversas empresas del sector así como universidades. Este entorno colaborativo permitirá que tanto las empresas como los investigadores puedan trabajar conjuntamente, compartiendo conocimientos y reduciendo los costes y tiempos asociados con el desarrollo de nuevas tecnologías en semiconductores. Además, se espera que esta iniciativa genere miles de empleos de alta tecnología y posicione a Estados Unidos como un líder en la producción de chips de última generación.
Vía: TechPowerUp.
