China lleva tiempo planeando su autosuficiencia en el apartado de la producción de semiconductores, pero para ello no solo necesita crear nuevos procesos litográficos sino también las máquinas para crear las obleas. Una de las empresas chinas dedicadas a esas máquinas litográficas o escáneres es Shanghai Micro Electronic Equipment, la cual ha indicado que está evolucionando según lo esperado. El objetivo es ponerla en el mercado en el cuarto trimestre de 2021.
La particularidad de este escáner es que está creado con tecnología de China y algunos componentes de Japón, por lo que prescinde totalmente de la tecnología estadounidense omnipresente en el sector. Incluso el principal fabricante de maquinaria litográfica como es la neerlandesa ASML hace uso de tecnología de EUA. Esta máquina que tiene en preparación SMEE está basada en la luz ultravioleta profunda, el paso previo a la luz ultravioleta extrema usada en algunas capas de los procesos de 7 nm e inferiores por TSMC y Samsung.
SMEE es una empresa más que ha recibido grandes inyecciones de dinero por parte del Estado chino para avanzar en su autosuficiencia tecnológica. De hecho los actuales escáneres de la compañía son para fabricar transistores entre los 90 y 280 nm, por lo que la bajada hasta los 28 nm será un salto mayor para la compañía. La mayoría de los chips se producen hoy en día en litografías por encima de los 14 nm, porque no todo está destinado a supercomputación. Hay sensores, microcontroladores y otros muchos tipos de chips que no necesitan la litografía más puntera y es preferible recurrir a procesos más baratos y rápidos.
Vía: Tom's Hardware.
