Intel ha pisado el acelerador en el desarrollo de nuevas litografías, y en este mismo año va a empezar a producir con dos nuevas. Es un gran avance respecto a aferrarse ocho años a los 14 nm. Pero esta situación imprime presión a sus ingenieros que tienen que cumplir con un ambicioso calendario de desarrollo al que ahora se ha sumado un proceso de 1 nm, llamado 10A. Según la trasparencia mostrada por la compañía, el inicio de producción con este proceso sería a finales de 2027 o principios de 2028.
Será también a partir de 2026 cuando más de la mitad de los chips producidos por la compañía será con procesos con luz ultravioleta extrema, que son los procesos a partir de los 4 nm. También ha comentado que realizará un aumento rápido y sostenido en el tiempo de su capacidad de producción. Se espera que el proceso 10A de Intel aporte en torno a un 15 % de mejora en el terreno del consumo-rendimiento, que es lo habitual entre generaciones de Intel.
La compañía también va a aumentar sustancialmente la capacidad de encapsulamiento avanzado de chips, lo cual incluye EMIB y Foveros para el encapsulado 3D, pero también otras tecnologías en las que trabaja como fotónica del silicio o HBI. En total la compañía invertirá 100 000 millones de dólares en los próximos cinco años en aumentar su capacidad de producción de chips con más líneas de producción en sus fábricas actuales y en la construcción de nuevas fábricas. En ello incluye más investigación para crear fábricas de chips totalmente autónomas.
Vía: Tom's Hardware.
